温室効果ガス | HFC |
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年度 | 2011 |
事業者名
事業所名[業種] |
年度 | 排出量 | 増減率(%) |
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株式会社野村総合研究所
横浜第二データセンター [情報処理サービス業] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野村総合研究所
横浜第一データセンター [情報処理サービス業] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野村総合研究所
横浜開発センター [受託開発ソフトウェア業] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野村総合研究所
大阪データセンター [情報処理サービス業] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野村総合研究所
横浜みなと総合センター [受託開発ソフトウェア業] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野村鍍金
福山工場 [電気めっき業(表面処理鋼材製造業を除く)] |
2011年 | 0 | ToDo |
NSK富山株式会社
株式会社野村鐵工所 [熱間圧延業(鋼管・伸鉄を除く)] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野田スクリーン
本社工場 [その他のユニット部品製造業] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野毛電気工業
横浜事業部 [その他の電子部品・デバイス・電子回路製造業] |
2011年 | 0 | ToDo |
株式会社野毛電気工業
九州事業部 [半導体素子製造業(光電変換素子を除く)] |
2011年 | 0 | ToDo |