温室効果ガス | HFC |
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年度 | 2011 |
事業者名
事業所名[業種] |
年度 | 排出量 | 増減率(%) |
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メキシケムジャパン株式会社
社三原製造所 [脂肪族系中間物製造業(脂肪族系溶剤を含む)] |
2011年 | 132846 | ToDo |
三井・ケマーズフロロプロダクツ株式会社
清水工場 [プラスチック製造業] |
2011年 | 74200 | ToDo |
日本ブチル株式会社
川崎工場 [合成ゴム製造業] |
2011年 | 69453 | ToDo |
昭和電工HD山形株式会社
昭和電工HD山形株式会社 [光ディスク・磁気ディスク・磁気テープ製造業] |
2011年 | 42730 | ToDo |
旭化成ケミカルズ株式会社
愛宕事業場 [ソーダ工業] |
2011年 | 33280 | ToDo |
マイクロンメモリジャパン合同会社
Fab15 [集積回路製造業] |
2011年 | 16000 | ToDo |
AGC株式会社
千葉工場 [ソーダ工業] |
2011年 | 15439 | ToDo |
株式会社東芝
四日市工場 [集積回路製造業] |
2011年 | 14000 | ToDo |
昭和電工エレクトロニクス株式会社
昭和電工エレクトロニクス株式会社 [光ディスク・磁気ディスク・磁気テープ製造業] |
2011年 | 11180 | ToDo |
関東電化工業株式会社
渋川工場 [圧縮ガス・液化ガス製造業] |
2011年 | 10400 | ToDo |